[发明专利]一种维护效率高的光刻机曝光装置在审
| 申请号： | 202010845359.4 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN111999988A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 云国珍 | 申请（专利权）人： | 云国珍 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B5/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 010000 内蒙古自治区*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种维护效率高的光刻机曝光装置，包括箱体和密封盖，所述箱体的形状为长方体，所述箱体的底部设有开口，所述箱体的顶部设有检修口，所述密封盖盖设在箱体的顶部且与检修口密封连接，所述箱体内设有曝光机构和除尘机构，所述曝光机构包括转动板、密封组件、两个灯管和两个转动组件，所述密封组件包括固定管、移动管和两个移动单元，所述移动单元包括电磁铁、磁铁板、导杆和第一弹簧，所述转动组件包括转动轴、连接轴承、单向轴承、转动齿轮、齿条、支撑块、第二弹簧、连接杆和推板，该维护效率高的光刻机曝光装置通过曝光机构实现了曝光紫外线的功能，不仅如此，还可以通过除尘机构实现清除灯管上灰尘的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 维护 效率 光刻 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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