[发明专利]一种真空镀膜设备多路入气多级整流工艺及气路系统

摘要

本发明提供一种真空镀膜设备多路入气多级整流工艺，即便是面对大面积的基片，其也可以使基片上的镀膜效果一致，可以明显提升整体镀膜均匀性。本发明技术方案中，将整流板分割为N×S个独立气流控制区域，采用离散式的气路控制模式，结合各区域内基材、工艺气体本身的实际条件，通过独立气流控制器独立调节各个独立气流控制区域的气流通入参数；根据工艺气体本身的特征，设置1级或多级整流，对工艺气体进行多级整流、分级扩散，使各区域的镀膜效果区域一致。同时本发明也公开了实现真空镀膜设备多路入气多级整流工艺的气路系统。