[发明专利]一种用于真空灭弧室的耐高温主屏蔽筒及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010849113.4 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN111785563B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 欧阳飞;周倜 申请(专利权)人: 湖北大禹汉光真空电器有限公司
主分类号: H01H33/662 分类号: H01H33/662;H01H33/664
代理公司: 武汉天领众智专利代理事务所(普通合伙) 42300 代理人: 林琳
地址: 432000 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种用于真空灭弧室的耐高温主屏蔽筒,包括主屏蔽筒和涂层,所述涂层原料按重量份比包括:碳化硅10‑12份、氧化锆8‑10份、氮化硅7‑9份、氧化铝4‑6份、氧化镁4‑6份、助剂10‑12份,本发明涉及真空灭弧室技术领域。该用于真空灭弧室的耐高温主屏蔽筒及其制作方法,通过在涂层制备的过程中加入碳化硅、氧化锆、氮化硅、氧化铝、氧化镁以及陶瓷微粉等材料,可有效增强了主屏蔽筒的耐高温性能,同时石墨粉、铜粉以及导热硅脂的导热性能优越,可以在主屏蔽筒均衡电场性能不变的基础上,大大降低了开断试验时主屏蔽筒被烧毁的风险,同时开断试验时,即使有电弧烧蚀到有陶瓷镀层屏蔽筒内壁时屏蔽筒也不会产生金属蒸汽。
搜索关键词: 一种 用于 真空 灭弧室 耐高温 屏蔽 及其 制作方法
【主权项】:
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