[发明专利]一种光学膜粘合胶的半自动贴合装置及工艺在审
申请号: | 202010850219.6 | 申请日: | 2020-08-21 |
公开(公告)号: | CN111897186A | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 林伟;郑宇辰;林超;王伟轶;周荣梵 | 申请(专利权)人: | 成都路维光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;G03F1/38 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 张严芳 |
地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学膜粘合胶的半自动贴合装置及工艺,包括底板,还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡块和光学膜边框,所述底板上设置内槽和外槽,所述内槽和外槽均为环形结构,所述内槽为外槽底部向下凹陷形成的凹槽,所述粘合胶为环形条状,所述粘合胶设置在内槽内,所述粘合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度,所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角外侧,所述光学膜边框安装在外槽内,所述光学膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。本发明优点是:减少了人手动贴合产生光学膜的可能性;扩大了可生产产品种类,提高了光学膜的利用率,降低了生产制造成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 粘合 半自动 贴合 装置 工艺 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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