[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 202010851702.6 | 申请日： | 2020-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN111897168A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 田茂坤;黄中浩;吴旭;齐成军;王骏;刘丹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 胡萌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开的实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可防止有源层过刻，减少工艺次数和制作成本。阵列基板包括衬底基板、遮光图案、缓冲图案、有源层、栅绝缘层、第一钝化层和源漏极。缓冲图案在衬底基板的正投影覆盖有源层在衬底基板的正投影。缓冲图案在衬底基板的正投影处于遮光图案在衬底基板的正投影范围之内，且缓冲图案在衬底基板的正投影的面积小于遮光图案在衬底基板的正投影的面积。栅绝缘层和第一钝化层中设置有第一过孔、第二过孔和第三过孔。源漏极中一者通过第一过孔与有源层耦接，另一者通过第二过孔与有源层耦接，通过第三过孔与遮光图案耦接。上述阵列基板应用于显示装置中，以使显示装置显示画面。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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