[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 202010854225.9 申请日: 2020-08-24
公开(公告)号: CN112701125A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 山北茂洋 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11573 分类号: H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582;H01L27/1157
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种能够提高成品率的半导体存储装置。根据实施方式,半导体存储装置包括:基板(100),包括包含存储单元阵列(10)的第一区域(MR)、包含控制存储单元阵列的电路(13)的第二区域(PR)、将第一区域与第二区域分开的第三区域(BR)以及包围第三区域的第四区域(ER);第一晶体管(TR),设于第二区域;第二晶体管(DT1a),在第三区域中,设于第一区域与第一晶体管之间;第三晶体管(DT1b),在第三区域中,设于第一晶体管与第二晶体管之间;以及第一绝缘层(55),包括设于第一至第三晶体管的上方的第一部分、以及在第二晶体管与第三晶体管之间与基板相接的第二部分(PW1)。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
暂无信息
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