[发明专利]一种等离子体放电异常的处理方法有效
申请号: | 202010861770.0 | 申请日: | 2020-08-24 |
公开(公告)号: | CN111926308B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 刘骐铭;郭艳;张春成;赵志然;李明 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/52;H05H1/00 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种等离子体放电异常的处理方法,其步骤包括:步骤S1:淀积工艺开始时,检测等离子体放电过程中输出电流Io是否超过最大电流设定值Imax,当Io>Imax时,判断放电过程中有Imax电弧发生;若Io<Imax,则继续比较Io是否超过电流设定值Ix,其中Ix<Imax;步骤S2:当输出电流Io>Ix时,同时需比较输出电压Uo是否超过电压设定值Ux;当Io>Ix且Uo<Ux时,判断放电过程中有U×I电弧发生;步骤S3:比较输出电压波动ΔU和设定值dU,当ΔU大于dU时,判断放电过程中有dU电弧发生。本发明具有原理简单、操作简便、自动化程度高、检测精度高、处理效果好等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 放电 异常 处理 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的