[发明专利]一种用于电子级铜蚀刻液的制备装置及制备工艺有效
| 申请号： | 202010862761.3 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN112058128B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 陈重佑;吴全贵;赖延恩;陈国民;艾合买提艾尔肯;李文斌;郑义达;骆彦成;任建业;刘奕丰 | 申请（专利权）人： | 福建天甫电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B01F27/90 | 分类号： | B01F27/90;B01F35/80;B01F23/80 |
| 代理公司： | 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 | 代理人： | 徐东峰 |
| 地址： | 364000 福建省龙岩*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种用于电子级铜蚀刻液的制备装置及制备工艺，涉及感光化学技术领域。制备装置包括用于储备原料磷酸的第一储槽、用于储备原料双氧水的第二储槽、用于储备原料超纯水的第三储槽、用于储备原料表面活性剂的第四储槽、混配槽、以及精密过滤器。第一储槽、第二储槽、第三储槽和第四储槽均同混配槽选择性地连通，混配槽的出口同精密过滤器的进口连通。其结构简单，实现了化繁为简，有助于简化生产流程并降低了操作难度，对于提高生产效率具有积极意义。制备工艺，其依托于至本装置，操作简单、易于实施，使整个生产过程更加精简，生产效率得到了提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 电子 蚀刻 制备 装置 工艺 | ||
【主权项】：
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