[发明专利]一种可响应X射线释药的介孔硅纳米粒子及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 202010869738.7 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN112057434A 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 邵丹;杨超;陈方满;张帆;董文飞;王政 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: A61K9/51 分类号: A61K9/51;A61K41/00;A61K47/04;A61K45/00;A61P35/00;B82Y5/00;B82Y25/00;B82Y30/00;B82Y40/00;A61K31/704
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 崔红丽
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种可响应X射线释药的介孔硅纳米粒子及其制备方法与应用,属于药物载体技术领域。所述的可响应X射线释药的介孔硅纳米粒子的制备方法,包括如下步骤:(1)双[3‑(三乙氧基硅基)丙基]双硒化物的制备;(2)可响应X射线释药的双硒介孔硅纳米粒子的制备。本发明制备的双硒介孔硅是首个可响应X射线发生骨架降解的介孔硅。本发明以双[3‑(三乙氧基硅基)丙基]双硒化物与正硅酸乙酯作为混合硅源,通过共缩聚法合成了含有双硒键的介孔硅,制备的双硒介孔硅不仅可响应X射线快速降解释放药物,还可响应肿瘤氧化还原微环境缓慢释放药物,进而实现对药物降解速度和药物释放速度的调控。
搜索关键词: 一种 响应 射线 介孔硅 纳米 粒子 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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