[发明专利]一种折射率可调谐薄膜结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010870803.8 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN111999912A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 贺洪波;张宇晖;王胭脂;陈瑞溢;王志皓;朱晔新;晋云霞;朱美萍;邵宇川;易葵;邵建达 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02F1/00 分类号: G02F1/00;G02F1/015;G03F7/00
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种折射率可调谐薄膜结构及其制备方法。通过在单层膜表面刻蚀周期性微结构形成折射率可调谐薄膜结构,其结构由下而上依次是致密膜层和周期性微结构膜层,致密膜层的折射率等于薄膜材料自身折射率,周期性微结构膜层的折射率与微结构参数相关。表面微结构相当于一个折射系数连续变化的介质层,介质层的等效折射系数小于薄膜材料折射率,通过调控介质层的等效折射率即可调控薄膜的整体折射率。制备方法包括:(1)基底表面镀制薄膜;(2)清洁膜面,在膜面上旋涂光刻胶;(3)采用双光束干涉对样品进行曝光;(4)显影得到所需的掩膜图样;(5)采用反应离子束刻蚀技术将掩膜图样转移至薄膜上;(6)清洁刻蚀产生的残留物。本发明通过调控薄膜中的纳米微结构高度、占空比来控制空气在薄膜中的占比,从而做到薄膜材料的折射率可调控。本发明具备极宽的折射率调控范围(从空气层折射率到薄膜材料自身折射率),且工艺简单,可重复强。
搜索关键词: 一种 折射率 调谐 薄膜 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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