[发明专利]一种形变测量系统及方法在审

专利信息
申请号: 202010871011.2 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN111982001A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 严洲;彭高亮;吉孟宇 申请(专利权)人: 北京无线电测量研究所
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 徐琪琦
地址: 100854 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种形变测量系统及方法,当待测二维平面结构为雷达的天线阵面时,将二维平面部件相对于雷达的天线阵面设置,多个激光位移传感器均按照预设频率采集雷达的天线阵面的不同位置的测量信号并发送至控制器,控制器根据每个激光位移传感的测量信号,得到雷达的天线阵面的不同位置在不同时刻的形变量,能准确地获取待测二维平面结构的不同位置在不同时刻的形变量,即能准确地获取天线阵面在实际使用过程中的实时的变形量,可以依据实时的变形量为数据处理过程中的误差补偿环节提供数据支持,进而保证了雷达的天线阵面对目标的探测精度。
搜索关键词: 一种 形变 测量 系统 方法
【主权项】:
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