[发明专利]指导半导体制造过程的方法和电子设备在审

专利信息
申请号: 202010876227.8 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN112446167A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 金宰浩;白康铉;李光熙;全镕宇;权义熙;金润硕 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27;G06F119/18;G06K9/62;G06N3/02;G06N20/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳永娟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种指导半导体制造过程的方法包括:接收与目标半导体产品对应的半导体制造过程数据;通过使用技术计算机辅助设计(TCAD)模型来生成与半导体制造过程数据对应的第一半导体特性数据,该TCAD模型是基于包括TCAD模拟数据的训练数据通过机器学习进行训练的;通过使用紧凑模型来生成与半导体制造过程数据对应的第二半导体特性数据,该紧凑模型是基于第一半导体产品的至少一个半导体特性的测量信息来生成的;基于第一半导体特性数据和第二半导体特性数据,通过使用多个对策模型生成分别与多个对策参考对应的多个过程策略;以及基于多个过程策略提供与目标半导体产品对应的最终过程策略。
搜索关键词: 指导 半导体 制造 过程 方法 电子设备
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010876227.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top