[发明专利]等离子体处理装置及处理基板的方法在审
| 申请号： | 202010876613.7 | 申请日： | 2020-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN112466734A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 横田聪裕 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明所公开的一种等离子体处理装置具备腔室、基板支撑器、等离子体生成部以及第1和第2电磁铁组件。基板支撑器配置于腔室内。基板支撑器上的基板的中心位于腔室的中心轴线上。等离子体生成部构成为在腔室内生成等离子体。第1电磁铁组件构成为包括一个以上的第1环状线圈，且配置于腔室上或其上方，并且在腔室内生成第1磁场。第2电磁铁组件构成为包括一个以上的第2环状线圈，且在腔室内生成第2磁场。第2磁场在基板支撑器上的基板的中心降低第1磁场的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010876613.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基片处理装置和基片处理方法
- 下一篇：一种樱桃黑森林蛋糕口味酸奶及其制备方法
