[发明专利]一种高效的光反射阵列结构及制备方法在审
| 申请号： | 202010877582.7 | 申请日： | 2020-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN112180485A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 董小春;王德麾;杨武;姜世平;郑鑫;代冬军 | 申请（专利权）人： | 四川云盾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/122 | 分类号： | G02B5/122;G02B7/182;F16F15/04 |
| 代理公司： | 成都三诚知识产权代理事务所(普通合伙) 51251 | 代理人： | 饶振浪;成实 |
| 地址： | 610225 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高效的光反射阵列结构，其特征在于，包括底座(7)，通过若干个缓冲机构安装在底座(7)上的安装座(1)，以及安装在安装座(1)上的反射机构(3)。本发明还提供一种高效的光反射阵列结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将安装座(1)通过缓冲机构(8)安装于底座(7)上等步骤。本发明的安装座和底座之间设置有缓冲机构，通过缓冲机构能够缓冲整个结构所受到的冲击力，提高本发明的使用寿命。传统光学结构仅在0度入射角情况下具有最高的光反射率，很难在其它入射角度下，比如10度入射角度下，获得100％的光返射率，本发明，通过调节微结构参数，可以在任意需要的特定角度下获得最高的100％光返射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高效 反射 阵列 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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