[发明专利]衬底基座有效
申请号: | 202010877974.3 | 申请日: | 2016-05-12 |
公开(公告)号: | CN112251734B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 特洛伊·艾伦·戈姆;蒂莫西·托马斯 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C14/50;C23C16/505;C23C14/32 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 樊英如;张静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及衬底基座。一种衬底基座包括:适配器,具有限定圆柱形内部区域的具有上表面和下表面的侧壁,上表面包括环形气体通道、内槽和外槽,内槽在至少一个气体通道的径向内侧,外槽位于内槽和环形气体通道的径向外侧,内槽配置成接收内O形环以形成内真空密封,外槽配置成接收外O形环以形成外真空密封;以及配置成与适配器机械耦合的杆,其具有:限定杆中的圆柱形内部区域的侧壁,侧壁包括下表面,和上表面,适配器的下表面与杆的侧壁的上表面机械耦合,杆的下表面包括至少一个气体入口,其与位于杆的侧壁中的相应的气体通道流体连通,至少一个气体入口与适配器的上表面的环形气体通道流体连通。 | ||
搜索关键词: | 衬底 基座 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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