[发明专利]实现高深宽比微沟槽深度测量的对比光谱系统及测量方法在审

专利信息
申请号: 202010880639.9 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN111982007A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 胡春光;武飞宇;霍树春;曲正;王浩;沈万福;胡晓东;胡小唐;刘晶 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01B11/22 分类号: G01B11/22
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 李素兰
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种实现高深宽比微沟槽深度测量的对比光谱系统及测量方法,包括光源模块(100)、分束镜(200)、样品测量模块(300)、参考物测量模块(400)以及光谱采集模块(500);所述光源模块(100)输出设定直径的照明光束,所述分束镜(200)将照明光束分为两束光,分别进入样品测量模块(300)和参考物测量模块(400);所述样品测量模块(300)和所述参考物测量模块(400)分别返回样品光谱和参考物光谱,所述光谱采集模块收集样品与参考物的光谱并传送至计算机,用以计算对比光谱,利用光谱傅里叶分析法与光谱拟合法解析高深宽比沟槽的深度值。本发明避免了样品色差对深度测量范围和解析准确性的影响;提高了解计算效率与精度。
搜索关键词: 实现 高深 沟槽 深度 测量 对比 光谱 系统 测量方法
【主权项】:
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