[发明专利]一种纳米多孔NiCr合金薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010883337.7 | 申请日： | 2020-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN112159964B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 刘相;刘军林;刘桂武;乔冠军 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/18;C23C14/58;C23C14/02;C23F1/44;C23F1/26;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及纳米薄膜材料的制备方法，特指一种纳米多孔NiCr合金薄膜及其制备方法。本发明首先利用磁控溅射技术在氧化铝衬底上沉积NiCr‑Ti前驱体薄膜，接着利用氢氟酸溶液进行刻蚀，目的为了去掉前驱体薄膜中的部分钛组元，最终形成以主要以镍铬合金为骨架的多孔薄膜材料。此种方法制备的纳米多孔镍铬合金薄膜多孔结构完整、连续，形状均匀、尺寸可控，且溅射面积大，厚度轻薄，所述薄膜孔径在80‑120nm，厚度在300‑1000nm。该薄膜对宽光谱具备高的吸收，在宽光谱吸收和发射涂层方面具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 多孔 nicr 合金 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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