[发明专利]一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法有效

专利信息
申请号: 202010883583.2 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN111912829B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 苏巍;罗寅龙;易恬安;陈秉岩 申请(专利权)人: 河海大学常州校区
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65;B82Y15/00;B82Y40/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 丁涛
地址: 213022 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法,包括如下步骤:采用时域有限差分算法,设置SERS基底的结构,包括SiO2基底层、Au金属薄膜层、SiO2介质层;确定仿真的初始条件;依次改变Au金属薄膜层的厚度、SiO2介质层的厚度、Au顶层金属层的厚度、以及双圆孔结构的缝距大小,利用FDTD solution软件计算SERS基底的电场强度分布,根据电场强度分布计算SERS基底的增强因子,筛选出增强因子较大的结构作为优化之后的SERS基底。本发明设计的结构可以有效的将入射光能量转换为表面等离子体波能量,并利用刻蚀纳米双孔有序阵列的复合膜SERS基底,产生LSPR和PSPR的有效耦合,从而最大限度的增强SERS信号。
搜索关键词: 一种 基于 表面 等离子体 效应 sers 基底 设计 方法
【主权项】:
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