[发明专利]一种针对鳍式场效应晶体管制程的新型阱型电阻结构在审

专利信息
申请号: 202010896319.2 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN111863809A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 陈尚志;张玉静;杨忙;孙至鼎 申请(专利权)人: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L49/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李晓光
地址: 250101 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供了一种针对鳍式场效应晶体管制程的新型阱型电阻结构,通过对P型衬底进行不同的掺杂,形成不同的区域,例如N阱、P阱和深N阱,并合理设置N阱、P阱和深N阱的相对位置,实现了鳍式场效应晶体管制程中的多种新型阱型电阻结构。
搜索关键词: 一种 针对 场效应 晶体 管制 新型 电阻 结构
【主权项】:
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