[发明专利]一种大面积高耐用性超疏水表面结构的制备方法及其产品有效
| 申请号： | 202010899353.5 | 申请日： | 2020-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN112028010B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 史铁林;林建斌;廖广兰;李小平;孔令贤;罗京;段暕 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B81B7/04 | 分类号： | B81B7/04;B81C1/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 石梦雅;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于微纳结构相关技术领域，并具体公开了一种大面积高耐用性超疏水表面结构的制备方法及其产品。该方法包括：在基底表面制备刻蚀掩膜层，并通过刻蚀在基底上制得倒锥形阵列；对倒锤形阵列进行纳米压印，以此制得锥形掩膜，然后进行一次倒模，获得倒锥形阵列结构；构建耐磨层，获得倒锥形模板，利用疏水聚合物对倒锥形模板进行二次倒模，制得锥形阵列结构；对锥形阵列结构的表面进行研磨，以得到锥台阵列结构。本发明采用一次倒模、构建耐磨层的方式制备大面积倒锥形模板，后续利用疏水聚合物进行二次倒模得到大面积的超疏水表面，无需任何低表面能物质修饰，最后通过研磨进行微纳结构的加工，能够进一步提高表面的粗糙度和结构稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大面积 耐用性 疏水 表面 结构 制备 方法 及其 产品 | ||
【主权项】：
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