[发明专利]一种用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010901970.4 申请日: 2020-09-01
公开(公告)号: CN111979055A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 张国亮;祁有丽 申请(专利权)人: 中科孚迪科技发展有限公司
主分类号: C11D1/825 分类号: C11D1/825;C11D1/83;C11D1/72;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/37;C11D3/06;C11D3/32;C11D3/08;C11D3/34;C11D3/36;C11D3/60;C1
代理公司: 长沙大珂知识产权代理事务所(普通合伙) 43236 代理人: 伍志祥
地址: 410500 湖南省岳阳*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开一种用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法,涉及电子工业清洗技术领域。本发明公开的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法,具体步骤为:往调和釜中加入所需去离子水,开启搅拌,然后加入无机碱和有机碱,搅拌至溶解;待碱液澄清透明后,将表面活性剂、增溶剂、螯合剂、抗再沉剂依次按照所需比例加入调和釜中,搅拌,然后加入助溶剂直至混合液清澈透明,再加入消泡剂,搅拌均匀。本发明制备的用于硬脆材料晶片的清洗剂与污染物相容性好,操作安全,性能稳定,清洗效率高,使用周期长,能有效提高加工效率。本发明配方中所用到的添加剂均符合电子级别清洗要求,符合国家环保法规所规定的废水配方标准不污染水质和土壤,绿色环保。
搜索关键词: 一种 用于 材料 晶片 洗剂 制备 方法
【主权项】:
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