[发明专利]面向大尺寸超薄掩膜版的一种高精高效激光抛光方法有效
| 申请号： | 202010903620.1 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN112091431B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 管迎春;张震;王华明;黎宇航 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学;清华大学 |
| 主分类号： | B23K26/356 | 分类号： | B23K26/356 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及面向大尺寸超薄掩膜版的一种高精高效激光抛光方法，属于先进激光制造技术领域，将高精高效激光抛光技术应用到大尺寸超薄掩膜版的表面光洁度提升，具体包括四个步骤：步骤一，选取超薄因瓦合金掩膜版放置在5轴加工平台上；步骤二，采用纳秒连续激光器并设定激光入射角；步骤三，设置N次激光抛光区域；步骤四，激光抛光连续性拼接。与现有技术相比，本发明取得的技术突破在于可以抛光传统方法不能打磨的大尺寸超薄金属掩膜版，不仅提高了掩膜版的表面光洁度，而且抛光效率高，精度高，对原有掩膜版外形几何特征尺寸的影响小。 | ||
| 搜索关键词： | 面向 尺寸 超薄 掩膜版 一种 高效 激光 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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