[发明专利]透明导电性薄膜、透明导电性薄膜的制造方法及中间体在审
申请号: | 202010905488.8 | 申请日: | 2020-09-01 |
公开(公告)号: | CN112447313A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 竹安智宏;延泽秀树 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供导体层与透明导电层的密合性优异的透明导电性薄膜、该透明导电性薄膜的制造方法、及该透明导电性薄膜的制造方法中使用的中间体。透明导电性薄膜(1)朝向厚度方向一侧依次具备透明基材(2)和导电层(3)。导电层(3)具备视觉辨识区域(10)及配置于视觉辨识区域(10)的外周边缘部的边框区域(11)。视觉辨识区域(10)具备透明导电层(4)。边框区域(11)具备:导体层(5)、透明导电层(4)、及配置于它们之间且用于实现导体层(5)与透明导电层(4)的密合的导电密合层(6)。透明导电层(4)包含金属纳米线。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 制造 方法 中间体 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010905488.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:冷冻装置及冷冻装置的运转方法
- 下一篇:图像形成装置