[发明专利]一种矩阵式射线成像板制备方法有效

专利信息
申请号: 202010907766.3 申请日: 2020-09-02
公开(公告)号: CN112164702B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 郭素文;郑岩;张瑞君;全丽华;蔡震涛;陈磊 申请(专利权)人: 上海洞舟实业有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201619 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明一种矩阵式射线成像板制备方法;其包括纳米射线探测材料、反光层、吸收剂、树脂粘结剂、保护层;其特征在于将粘结剂与吸收剂、射线探测材料按比例进行密炼、造粒,然后将造粒后的混合物置于模具内,在模具底部加入反光薄膜,利用热压方式将材料热压制备成板材,然后利用丝网印刷、喷涂、刮涂方式在表面制备出保护层,同时在成像板表面制备出矩阵列就得到所需的射线成像板,将矩阵成像板与TFT成像器件配合使用可以实现射线成像。
搜索关键词: 一种 矩阵 射线 成像 制备 方法
【主权项】:
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