[发明专利]直写曝光机有效
| 申请号： | 202010912037.7 | 申请日： | 2020-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN112130422B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 项宗齐 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 曹雪荣 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种直写曝光机，所述直写曝光机包括：吸附平台系统；运动平台系统，所述运动平台安装于吸附平台系统；对准系统，所述对准系统安装于所述运动平台系统；电控系统，所述电控系统安装于所述运动平台系统，所述电控系统和所述对准系统电连接；曝光系统，所述曝光系统安装于所述运动平台系统，所述曝光系统和所述电控系统电连接，所述曝光系统包括多个曝光单元，相邻曝光单元之间的间距小于每个曝光单元的宽度。根据本发明实施例的直写曝光机能够一次扫描成型，具有生产效率高、产品质量好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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