[发明专利]一种新型调制MOS集成RG的方法在审
申请号: | 202010913629.0 | 申请日: | 2020-09-03 |
公开(公告)号: | CN112131818A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 高洪波;廖兵 | 申请(专利权)人: | 苏州达晶半导体有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392 |
代理公司: | 天津市弘知远洋知识产权代理有限公司 12238 | 代理人: | 刘英烈 |
地址: | 215000 江苏省苏州市高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种新型调制MOS集成RG的方法,包括以下步骤:根据实际情况设计RG结构;版图设计定型;根据版图计算方块电阻的大小;根据方阻的大小,选择poly implant(多晶注入)的工艺条件;实施poly implant(多晶注入)的操作;最终形成RG电阻,本发明通过多晶注入掺杂的搭配,可以实现不同RG的组合,实现不同RG的集成数值,具有操作简单,节约改版成本的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 调制 mos 集成 rg 方法 | ||
【主权项】:
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