[发明专利]一种新型调制MOS集成RG的方法在审

专利信息
申请号: 202010913629.0 申请日: 2020-09-03
公开(公告)号: CN112131818A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 高洪波;廖兵 申请(专利权)人: 苏州达晶半导体有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 天津市弘知远洋知识产权代理有限公司 12238 代理人: 刘英烈
地址: 215000 江苏省苏州市高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种新型调制MOS集成RG的方法,包括以下步骤:根据实际情况设计RG结构;版图设计定型;根据版图计算方块电阻的大小;根据方阻的大小,选择poly implant(多晶注入)的工艺条件;实施poly implant(多晶注入)的操作;最终形成RG电阻,本发明通过多晶注入掺杂的搭配,可以实现不同RG的组合,实现不同RG的集成数值,具有操作简单,节约改版成本的优点。
搜索关键词: 一种 新型 调制 mos 集成 rg 方法
【主权项】:
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