[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202010932383.1 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN112018161B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 任怀森;杨柯;侯鹏;李岢恒;王林林;熊登申;黄川 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77;G06F3/041;G06V40/13
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 王迪
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,用以减少纹路识别光线传播路径,提高纹路识别准确率和效率。阵列基板包括:衬底;阵列基板具有:显示区,以及周边区;显示区包括:在衬底之上的第一薄膜晶体管,在衬底之上与第一薄膜晶体管电连接的第一连接引线,位于第一薄膜晶体管之上的封装层,位于封装层之上的光敏器件,以及位于封装层之上的与光敏器件电连接的第二连接引线;第一连接引线,第二连接引线,以及封装层均延伸到周边区;周边区包括:位于第一连接引线和封装层之间的挡墙;封装层覆盖挡墙,且封装层在挡墙背离第一薄膜晶体管的一侧具有暴露第一连接引线的第一过孔,第二连接引线通过第一过孔与第一连接引线电连接。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
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