[发明专利]金属镀膜的形成方法有效
| 申请号： | 202010933954.3 | 申请日： | 2020-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN112501595B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 饭坂浩文 | 申请（专利权）人： | 丰田自动车株式会社 |
| 主分类号： | C23C18/16 | 分类号： | C23C18/16;C23C18/42 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王潇悦;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种采用固相法形成具有厚膜厚的金属镀膜的方法。本发明涉及一种金属镀膜的形成方法，是形成第1金属和离子化倾向大于第1金属的第2金属的金属镀膜的方法，包括：使第2金属在铜基材的表面上析出而形成第2金属镀膜的第1工序；以及采用固相无电解镀法使第1金属在第2金属的表面上析出而形成第1金属镀膜的第2工序，使用层叠复合体实施第2工序中的固相无电解镀法，层叠复合体包含：含有第1金属离子的第1置换型无电解镀浴；固体电解质膜；镀有第2金属的铜基材；离子化倾向大于第2金属的第3金属；含有第1金属离子的第2置换型无电解镀浴；以及绝缘性高分子。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 镀膜 形成 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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