[发明专利]一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法在审

专利信息
申请号: 202010937615.2 申请日: 2020-09-07
公开(公告)号: CN112255722A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 苑立波;徐致远 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供的是一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法,适用于纤芯存在较大范围横向折射率变化的光纤的啁啾光纤布拉格光栅制备。其特征是将准分子激光器、反射镜、扩束镜、柱透镜、掩模板和单应力元光纤依次按序放入刻写光路中,并使纤芯和掩模板平行,且垂直于掩模板栅线,即可使用刻写均匀光纤布拉格光栅的流程,得到啁啾光纤布拉格光栅。本发明使用不同的纤芯折射率存在较大范围的横向变化的光纤,即可只利用同一块相位掩模板制备出具有不同光谱特征的啁啾光纤布拉格光栅。本发明可用于啁啾光纤布拉格光栅的制备,可广泛用于光纤器件技术领域。
搜索关键词: 一种 借助于 均匀 光栅 掩膜板 制备 啁啾 光纤 布拉格 新方法
【主权项】:
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