[发明专利]一种平滑高速电解铜箔的生产工艺在审

专利信息
申请号: 202010942271.4 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN112080768A 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 肖炳瑞;黄永发;余科淼;徐建平;郭立功 申请(专利权)人: 江西省江铜耶兹铜箔有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04;C25D3/38;C25D7/06
代理公司: 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 代理人: 牛永山
地址: 330000 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供一种平滑的高速电解铜箔的生产工艺方法。本发明的工艺方法包含硫酸铜电解液工艺和添加剂配方工艺,电解液包含铜离子、硫酸、氯离子和溶液温度;添加剂工艺包含整平剂、光亮剂和细化剂。具体涉及通过配制电解液和通过添加剂工艺调整,可以有效控制铜箔晶粒生长,使铜箔表面形貌平滑、光泽度高,制备获得一种平滑的高速电解铜箔,并满足高端高速电路板要求的铜箔生产工艺方法,属于高精平滑电解铜箔生产工艺技术领域。
搜索关键词: 一种 平滑 高速 电解 铜箔 生产工艺
【主权项】:
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