[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法在审
| 申请号： | 202010944925.7 | 申请日： | 2020-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN112506002A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 山口昇 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G03F1/50;G03F1/58;G03F1/66;H01L21/027;H01L21/033 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王博;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，该光掩模能够在被转印体上形成具有优异的竖立的轮廓的抗蚀剂图案。一种光掩模，其在透明基板上具备包含透光部、遮光部和半透光部的转印用图案，其中，透光部是透明基板露出而成的，半透光部是在透明基板上形成透射控制膜而成的，遮光部具有边缘部和层积部，该边缘部沿着与透光部相邻的边缘以规定宽度D1(μm)(其中0.5≤D1)配置，其是在透明基板上形成相位控制膜而成的，该层积部配置于边缘部以外的区域，其是在透明基板上层积相位控制膜和透射控制膜而成的。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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