[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202010944925.7 申请日: 2020-09-10
公开(公告)号: CN112506002A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 山口昇 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/38 分类号: G03F1/38;G03F1/50;G03F1/58;G03F1/66;H01L21/027;H01L21/033
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王博;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法,该光掩模能够在被转印体上形成具有优异的竖立的轮廓的抗蚀剂图案。一种光掩模,其在透明基板上具备包含透光部、遮光部和半透光部的转印用图案,其中,透光部是透明基板露出而成的,半透光部是在透明基板上形成透射控制膜而成的,遮光部具有边缘部和层积部,该边缘部沿着与透光部相邻的边缘以规定宽度D1(μm)(其中0.5≤D1)配置,其是在透明基板上形成相位控制膜而成的,该层积部配置于边缘部以外的区域,其是在透明基板上层积相位控制膜和透射控制膜而成的。
搜索关键词: 光掩模 制造 方法 显示装置
【主权项】:
暂无信息
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