[发明专利]一种带场板结构的高可靠性氮化物器件在审

专利信息
申请号: 202010946052.3 申请日: 2020-09-11
公开(公告)号: CN111863947A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 王磊 申请(专利权)人: 苏州晶界半导体有限公司
主分类号: H01L29/40 分类号: H01L29/40;H01L29/778
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215123 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种带场板结构的高可靠性氮化物器件,依次自下而上包括:衬底、氮化物缓冲层、氮化物沟道层、氮化物势垒层、栅介质层、绝缘介质层、漏极、栅极场板结构和源极场板结构;所述漏极形成于绝缘介质层上,漏极的底端部分形成于氮化物势垒层上;所述栅极场板结构形成于栅介质层上,栅极场板结构向靠近所述漏极一侧延伸;所述源极场板结构形成于绝缘介质层上,源极场板结构的底端部分形成于氮化物势垒层上,并且源极场板结构在栅极场板结构延伸的方向上延伸。本发明的优点在于:通过优化器件场板结构,有效提升器件的栅极稳定性和可靠性。
搜索关键词: 一种 板结 可靠性 氮化物 器件
【主权项】:
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