[发明专利]一种双向液态源蒸发CVD系统有效
申请号: | 202010953796.8 | 申请日: | 2020-09-11 |
公开(公告)号: | CN112342527B | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 孔令杰;李晓丽 | 申请(专利权)人: | 安徽贝意克设备技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 刘生昕 |
地址: | 230000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种双向液态源蒸发CVD系统,包括蒸发装置主体,所述蒸发装置主体的上方安装有加热炉和石英外管;双向液态源蒸发CVD系统是通过双向双回路的方式,将液态源蒸发后的汽态源分别从第一进出座和第二进出座分次输入,通过第一进出座和第二进出座的输入保证沉积内管中汽态源充分留存,能够充分反应;将保护气体通过预热装置预热到液态源蒸发温度,保护石英外管内部的汽态源不会遇冷后凝固,通过触摸屏控制加热炉在滑轨上左右横向移动,可快速定位沉积内管中材料沉积区并进行快速加温,使得沉积区的材料受热变成汽态;此法相对一般工艺而言液态源蒸发成汽态更纯,裂解后杂质少,所制得的薄膜或材料质量更高。 | ||
搜索关键词: | 一种 双向 液态 蒸发 cvd 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的