[发明专利]一种单光路精确测量近远场基准与准直装置有效

专利信息
申请号: 202010965089.0 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112197940B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 王温予;彭宇杰;冷雨欣;吕欣林;冯壬誉;钱俊宇;邵蓓捷 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01B11/27;G01J1/42
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种单光路精确测量近远场基准与准直装置。在本发明中光路采用镀膜不同的双透镜,通过第一透镜内光的透射与反射,之后的光再通过第二透镜,分别可以在光路后的高分辨率CCD中呈现精确的近场(经过双透镜后缩小的图像)和远场(无穷远处聚焦)的光斑图像。而此时的近场和远场图像呈现在了同一幅图像之中。该装置较传统准直基准装置来说,结构简单,且准直结果同样精确,并且易于实现。通过此方法准直激光的光路,可以简化准直系统的设计方案,通过单一CCD便可以同时采集光路中精确的近远场图像,以此来达到快速准直光路的目的。
搜索关键词: 一种 单光路 精确 测量 近远场 基准 装置
【主权项】:
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