[发明专利]暗场检测装置有效
申请号: | 202010970259.4 | 申请日: | 2020-09-15 |
公开(公告)号: | CN112098421B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 李运锋;李润芝;王婷婷;于大维 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种暗场检测装置,所述暗场检测装置包括照明模块、光路整形模块、物镜和成像传感器,所述光路整形模块包括用于在晶片上形成重叠的线形照明光斑的多个分支光路;每一所述分支光路均用于以一定的入射角度照射所述晶片,所述多个分支光路形成环形照射;每一所述分支光路均包括匀光结构和临界照明结构,所述光源提供的光依次经所述匀光结构和临界照明结构照射至所述晶片上。本发明可以有效提高照明均匀性,同时也可以使得照明功率密度得以提升,杂散光得到很好的抑制,从而有利于线扫产率的提升,避免出现照明光斑颗粒状分布,更加有利于缺陷(颗粒、标记边缘)的检出。 | ||
搜索关键词: | 暗场 检测 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010970259.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。