[发明专利]基于薄膜体声波谐振器的磁场传感器及制备方法在审
申请号: | 202010975435.3 | 申请日: | 2020-09-16 |
公开(公告)号: | CN111965572A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 韦一;柏沁园;唐莹;王玉龙 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
主分类号: | G01R33/10 | 分类号: | G01R33/10;G01R33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于薄膜体声波谐振器的磁场传感器,其结构从下至上包括硅衬底、绝缘支撑层、下电极、压电层、上电极以及上电极两侧的绝缘体块;上电极采用具有磁致伸缩效应的材料,便于随磁场大小发生变化;硅衬底上刻蚀形成空气腔并在上方沉积绝缘支撑层作为声波反射层;当磁场发生变化,上电极发生磁致伸缩效应,引起电极发生形变,从而改变谐振频率,以此来测量磁场强度;本发明中磁场传感器的尺寸小,制造成本低,制备工艺简单,并且能够反复使用。 | ||
搜索关键词: | 基于 薄膜 声波 谐振器 磁场 传感器 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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