[发明专利]半导体冷却装置在审

专利信息
申请号: 202010976482.X 申请日: 2020-09-16
公开(公告)号: CN112908951A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 松岛诚二 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/473
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 张轶楠;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在具备液冷式冷却器的半导体冷却装置中,能不增大翅片间距地抑制由异物引起的冷却性能的下降、压力损失的上升。半导体冷却装置(1)具备搭载半导体元件(11)的绝缘基板(10)和液冷式冷却器(20)。所述液冷式冷却器(20)具有:散热基板(21),在一个面以预定间隔立起设置有多个板状翅片(22);及套箱(30),具有容纳所述翅片(22)的凹部(31),并装配于所述散热基板(21)的一个面侧而形成冷却液流通空间(35),在所述冷却液流通空间(35)中,在翅片(22)的前端与所述套箱(30)的凹部(31)的底面之间形成有成为主流路(36)的间隙,所述主流路(36)的高度H和翅片(22)与翅片(22)之间的翅片间隙(24)的尺寸W满足HW的关系。
搜索关键词: 半导体 冷却 装置
【主权项】:
暂无信息
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