[发明专利]直下式背光模块的阵列反射结构有效
| 申请号： | 202010985198.9 | 申请日： | 2020-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN112099265B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 黄建历 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人： | 梁挥;孟超 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种直下式背光模块的阵列反射结构，包含第一阵列、第二阵列以及定位件。其中，第一阵列，包含多个第一反射部，多个第一反射部沿纵向方向相连；第二阵列，包含多个第二反射部，多个第二反射部沿纵向方向相连，第二阵列与第一阵列之间具有间隙，纵向方向与间隙的长度方向为实质上平行；定位件一侧连接第一阵列，另一侧抵靠第二阵列而定位第一阵列与第二阵列，并覆盖至少一部分的间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 直下式 背光 模块 阵列 反射 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司，未经友达光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010985198.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
