[发明专利]一种浸没式光刻机浸液温控装置有效
| 申请号： | 202010994847.1 | 申请日： | 2020-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN112034689B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 李小平;曹迪 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学;武汉智能装备工业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 廖盈春;曹葆青 |
| 地址： | 430074 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种浸没式光刻机浸液温控装置，包括：第一级温控模块通过对PCW循环回路的加热功率和流量控制，调节PCW循环回路中PCW的温度，并通过将PCW循环回路和UPW循环回路热交换来调节从光刻机中回收的UPW的温度，使UPW的温度达到稳定的设定值；第二级温控模块将经第一级温控模块调节温度后的UPW液体分成两路UPW通路，并基于两路UPW通路热负载的差异调节两路UPW的温度使得两路UPW的温度均温度保持在设定值；第二级温控模块流出的两路UPW注入所述浸没式光刻机，使得浸没式光刻机能够基于UPW浸没流场工作。本发明控制PCW的温度和流量与浸液进行热交换，对PCW温度波动具有缓冲能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸没 光刻 浸液 温控 装置 | ||
【主权项】：
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