[发明专利]一种杂质清除功能的电子元器件制作设备在审
申请号: | 202010998272.0 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN112086383A | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 平克宇 | 申请(专利权)人: | 南京利硕斯机电设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 211100 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种杂质清除功能的电子元器件制作设备,包括箱体和点胶管,所述箱体的形状为长方体,所述点胶管竖向设置在箱体的底部且与箱体连通,所述箱体内设有胶和执行系统,所述点胶管上设有辅助机构和清洁机构,所述辅助机构包括固定环、密封盘、磁铁块、移动管、两个连接块、两个复位组件和两个连接组件,所述复位组件包括导杆、第一弹簧、固定块和导孔,所述连接组件包括滑块、限位块、固定杆和第二弹簧,所述清洁机构包括两个清洁组件,该杂质清除功能的电子元器件制作设备通过辅助机构实现了防止胶滴落的功能,不仅如此,还通过清洁机构实现了清除基板上杂质的功能。 | ||
搜索关键词: | 一种 杂质 清除 功能 电子元器件 制作 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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