[发明专利]基于基频放大的和频产生紫外光装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010999737.4 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN112134125A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 储玉喜;张萌 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01S3/00 分类号: H01S3/00;H01S3/109;H01S3/0941
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 刘国威
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及激光光源,为解决传统产生266nm的“2+2”的方法中倍频532nm的晶体选择局限,同时保证266nm的转化效率,本发明,基于基频放大的和频产生紫外光装置和方法,激光脉冲经过倍频晶体、色镜后,所述剩余的1064nm基频光经过所述的双色镜反射后入射到Nd:YVO4晶体,808nm半导体泵浦激光器输出的泵浦光通过双色镜泵浦所述Nd:YVO4晶体,剩余的1064nm基频光经过所述的Nd:YVO4晶体放大后入射到所述的双色镜透射后入射到所述的三倍频晶体;532nm倍频光经过反射镜反射后到达所述的双色镜后反射至所述的三倍频晶体,产生355nm紫外光。本发明主要应用于设计制造场合。
搜索关键词: 基于 基频 放大 产生 紫外光 装置 方法
【主权项】:
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