[发明专利]一种S掺杂Te空位型2H MoTe2有效

专利信息
申请号: 202011005830.5 申请日: 2020-09-23
公开(公告)号: CN114289037B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 安长华;王雅倩;姚爽 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: B01J27/057 分类号: B01J27/057;B01J27/24;B01J35/10;B01J37/10;B82Y30/00;B82Y40/00;C25B11/091;C25B1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种合成2H相MoTe2的制备方法和应用,得到了负载于N掺杂碳布上富含Te空位的S掺杂2H相MoTe2二维纳米片,并用作电催化产氢材料。具体技术方案:利用MoS2/NCC纳米片为前驱体,在氩氢气中与Te粉反应煅烧,将其原位转化为导电基底负载型2H MoTe2/NCC,同时含有S掺杂的Te空位缺陷。碳布基底保证碲化过程中纳米片分散性,并能促进电子传输。S掺杂和Te空位的协同效应有效提高2H相MoTe2为电催化产氢材料性能。本发明制备过程简单,重复性高,产物稳定,实现了较大电流密度产氢,为其实际应用奠定了基础。
搜索关键词: 一种 掺杂 te 空位 mote base sub
【主权项】:
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