[发明专利]荧光X射线分析装置在审
| 申请号： | 202011009411.9 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN112378938A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 山田康治郎;原真也;堂井真 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种荧光X射线分析装置。测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度，对于已指定的全部的测定线，通过理论计算而计算出推算测定强度，以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度，针对每个变化的测定线，通过基本参数法，求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值，根据该定量值和已指定的组成和/或厚度，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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