[发明专利]量子点修饰方法、发光器件、其制作方法及显示装置有效
| 申请号： | 202011010972.0 | 申请日： | 2020-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN112117378B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 苗湘 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H10K50/115 | 分类号： | H10K50/115;H10K71/00;H10K59/122 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种量子点修饰方法、发光器件、其制作方法及显示装置。该量子点发光器件包括的发光层材料为表面修饰有浸润性可逆变聚合物的量子点，所述浸润性可逆变聚合物在温度低于最低共溶温度的条件下具有亲水性，在温度高于最低共溶温度的条件下具有疏水性。由于形成发光层的量子点表面修饰有浸润性可逆变聚合物，因此能够在墨水蒸干以形成发光层的过程中通过调整蒸发温度来改变墨水的接触角，从而调整蒸发的三相线，带动量子点均匀分散，从而调节咖啡环效应，形成均匀的发光层。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 修饰 方法 发光 器件 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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