[发明专利]一种密集型光波复用滤光片在审
申请号: | 202011023350.1 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN112099124A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 陈信源;何伟峰;温勇健 | 申请(专利权)人: | 广州市佳禾光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;G02B1/14;G02B1/115;G02B6/293 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 谭英强 |
地址: | 510535 广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种密集型光波复用滤光片,包括基体及分别覆设在基体两个相对表面的滤光层、抗放射层,滤光层相对于基体的表面还设有抗刮层,当后续需要进行抛光操作时,能够防止滤光层因摩擦受损,确保滤光片的良率;同时,组成滤光层的一号介质亚层的构成材料采用了氢化硅,使滤光层的总层数得以降至不大于84层,且层厚得以不大于20μm,与现有技术相比,极大地减小了滤光层的厚度,有效抑制了因滤光层过厚造成的光损失、光通路迷和应力累积,实现整体制造成本的降低。 | ||
搜索关键词: | 一种 密集型 光波 滤光 | ||
【主权项】:
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