[发明专利]磁场可调的磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 202011024220.X | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112176303A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 李国强;舒逸;刘光斗;李赞 | 申请（专利权）人： | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙) 43263 | 代理人： | 张文 |
| 地址： | 411100 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁场可调的磁控溅射阴极，包括靶材、背板、磁体装置、阴极底板以及屏蔽板，磁体装置由在长度方向上的多块独立磁场模块组成，每个独立磁场模块分别单独通过调节组件与固定在阴极底板上的固定底板连接，调节组件包括调节螺母、调节螺杆、导向柱，调节螺母转动连接在固定底板上，调节螺杆与调节螺母螺纹连接，调节螺杆穿过固定底板与独立磁场模块连接，固定底板上设有导向孔，导向柱一端与独立磁场模块固定连接，另一端与导向孔配合。本发明将磁体装置在高度方向上分成多段独立磁场模块，每块独立磁场模块均可通过调节螺母来实现前后移动，从而调节磁场前后的距离，实现高度方向上不同区域膜厚不一致的工艺生产要求。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 可调 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
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