[发明专利]基于被动式激光陀螺仪陀螺腔体的精密研磨抛光方法有效
| 申请号： | 202011026444.4 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112338792B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 回长顺;白庆光;于鑫;陈卓;张宝兴 | 申请（专利权）人： | 天津津航技术物理研究所 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/27;B24B49/02 |
| 代理公司： | 天津市鼎拓知识产权代理有限公司 12233 | 代理人： | 刘雪娜 |
| 地址： | 300000 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本申请提供有一种基于被动式激光陀螺仪陀螺腔体的精密研磨抛光方法。本技术方案所提供的精密研磨抛光方法，一方面，结合了测量、研磨、修整、抛光与重复测量的工艺步骤，另一方面，为解决腔体立面超高导致的装夹和研抛的难题，在上述工艺步骤中还使得可以腔体适度的倾斜，以更易于修磨研抛，最终能够同时保证了腔体的线性尺寸与角度尺寸达到合格，还兼顾了相邻贴片面夹角及与基准面垂直度角度误差与线性尺寸一起达到设计指标，解决了通常方法修磨过度及尺寸、角度超差问题，保证了贴片面表面疵病等级及面形精度达标，具有大尺寸陀螺腔体贴片面加工的推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 被动式 激光 陀螺仪 陀螺 精密 研磨 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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