[发明专利]耐腐蚀涂层制备方法、半导体零部件和等离子体反应装置在审
| 申请号： | 202011026969.8 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN114250436A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 段蛟 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/58;H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 | 代理人： | 文言;田宇 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种耐腐蚀涂层制备方法、半导体零部件和等离子体反应装置，其中方法包括：提供零部件本体，零部件本体至少包括不共面的第一待涂面和第二待涂面；在第一待涂面上形成致密的耐腐蚀涂层，同时在第二待涂面形成疏松的耐腐蚀涂层；对零部件本体进行清洁处理，去除疏松的耐腐蚀涂层，暴露出所述第二待涂面；在第二待涂面上形成致密的耐腐蚀涂层，同时在第一待涂面形成疏松的耐腐蚀涂层；对零部件本体进行清洁处理，去除疏松的耐腐蚀涂层。本发明提供的方法得到的零部件本体表面形成的涂层都具有致密的结构，减少涂层在等离子体轰击下脱落形成颗粒的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀 涂层 制备 方法 半导体 零部件 等离子体 反应 装置 | ||
【主权项】：
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