[发明专利]一种光刻图形的制造方法与制造系统在审
| 申请号： | 202011032944.9 | 申请日： | 2020-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN112255884A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 翁文杰 | 申请（专利权）人： | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 林凡燕 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻图形的制造方法及制造系统，包括：在基底上形成一光刻胶；对所述光刻胶进行曝光处理，以在所述光刻胶上形成第一区和第二区；采用显影液对所述光刻胶进行多次显影处理，以使所述显影液去除所述第一区或所述第二区，以形成所述光刻图形；其中，所述显影处理包括：向所述光刻胶喷涂所述显影液；所述显影液与所述第一区或所述第二区反应。其中，向所述光刻胶喷涂所述显影液的过程至少包括第一喷涂过程，第二喷涂过程和第三喷涂过程；其中，在每次所述显影处理之后，还包括去除与所述第一区或所述第二区反应的所述显影液。本发明提出的光刻图形的制造方法可以避免光刻图形出现形貌缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 图形 制造 方法 系统 | ||
【主权项】：
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