[发明专利]横向超结结构的制造方法有效

专利信息
申请号: 202011033177.3 申请日: 2020-09-27
公开(公告)号: CN112151618B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 韩广涛 申请(专利权)人: 杰华特微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 刘静;李秀霞
地址: 310030 浙江省杭州市西湖区三墩镇*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种横向超结结构的制造方法,所述横向超结结构位于横向扩散晶体管的外延层内,所述方法包括:在外延层上表面形成多个间隔排列的阻挡条;从阻挡条侧边向下方倾斜注入第一类型掺杂离子,以形成由相邻的阻挡条限定宽度的第一类型掺杂条;对阻挡条贴设侧壁,以形成覆盖第一类型掺杂条的遮挡层;从外延层上方向下垂直注入第二类型掺杂离子,以在外延层未被遮挡层遮挡的部分形成第二类型掺杂条。本发明解决了横向超结晶体管因使用掩膜数量较多而耗费制造成本的技术问题。
搜索关键词: 横向 结构 制造 方法
【主权项】:
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